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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉積工藝應(yīng)用

       CVD(派瑞林Parylene真空鍍膜)廣泛用於航空航天、電路板、LED 、磁性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫(yī)療器械、珍貴文物等領(lǐng)域。派瑞林真空鍍膜後的電子產(chǎn)品具有極高的絕緣強(qiáng)度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、防銹、透明、防水(最高可達(dá)IP68)、抗老化、生物相容性等作用。

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